| 課程代碼 |
30M20O01
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| 課程中文名稱 |
薄膜工程
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| 課程英文名稱 |
Thin Films Engineering
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| 學分數 |
3.0
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| 必選修 |
選修
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| 開課班級 |
博研電子一甲,碩研電子一甲
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| 任課教師 |
鄭建民
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| 上課教室(時間) |
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週二
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第6節
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(S607)
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週二
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第7節
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(S607)
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週二
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第8節
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(S607)
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| 課程時數 |
3
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| 實習時數 |
0
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| 授課語言 |
1.華語
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| 輔導考證 |
無
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| 課程概述 |
本課程介紹真空環境下藉由電漿進行物理現象的薄膜沉積技術，探討薄膜沉積時原子堆疊行為，了解薄膜表面與薄膜之間的介面特性和元件電特性分析。介紹常見的幾種沉積薄膜方式，例如:濺鍍法、蒸鍍法、CVD等...。
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| 先修科目或預備能力 |
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課程學習目標與核心能力之對應
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| 編號 | 中文課程學習目標 | 英文課程學習目標 |
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1
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具備運用電子專業知識解決工程問題之能力。
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2
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具備半導體製程實務的能力。
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3
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具備開發新材料特性能力。
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4
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分析並應用研究成果的能力。
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| 就業力培養目標 |
此門課程無設定權重值
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| 中文課程大綱 |
第1章 真空技術
第2章 電漿物理
第3章 表面動力學與薄膜生長機制
第4章 薄膜沉積技術
第5章 表面、介面與元件電性
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| 英/日文課程大綱 |
Chapter 1. Vacuum Technology
Chapter 2. Physics of Plasma
Chapter 3. Surface Dynamics and Mechanism of Thin Films Growth
Chapter 4. Thin Films Deposition Technology
Chapter 5. Surface, Interface, and Electrical Characteristics of Device
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| 課程進度表 |
第1~3週:CH.1 真空技術與氣體動力學
第4~5週:CH.2 電漿物理學
第6~8週:CH.3 表面動力學與薄膜成長機制
第9週:期中考
第10~11週:CH.4 薄膜製作技術
第12~14週:CH.5 散射與薄膜結構或成分分析
第15~17週:CH.6 薄膜特性檢測技術介紹
第18週:期末考
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| 課程融入SDGs |
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| 期考調查 |
| 期中考(第9週)考試方式 |
期中書面報告
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| 期末考(第18週)考試方式 |
期末書面報告
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| 其他週考試考試週次與方式 |
第14週平時書面報告
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| 教學方式與評量方式 |
| 課程學習目標 | 教學方式 | 評量方式 |
| 具備運用電子專業知識解決工程問題之能力。 |
課堂講授
專題演講
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作業
（
期中
）
作業
（
期末
）
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| 具備半導體製程實務的能力。 |
課堂講授
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作業
（
期中
）
作業
（
期末
）
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| 具備開發新材料特性能力。 |
課堂講授
|
作業
（
平時
）
作業
（
期末
）
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| 分析並應用研究成果的能力。 |
課堂講授
|
作業
（
期末
）
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| 指定用書 |
| 書名 |
薄膜科技與應用
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| 作者 |
羅吉宗
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| 書局 |
全華圖書
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| 年份 |
2013
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| 國際標準書號(ISBN) |
978-957-21-8877-4
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| 版本 |
4
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請同學尊重智慧財產權，使用正版教科書，不得非法影印，以免觸犯智慧財產權相關法令
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| 參考書籍 |
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| 教學軟體 |
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| 課程規範 |
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